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南京覃思科技有限公司

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美國JC Nabity納米圖形發(fā)生系統(tǒng)NPGS_EBL電子束曝光
全部分類
美國JC Nabity電子束曝光系統(tǒng)(NPGS納米圖形發(fā)生器)

美國JC Nabity電子束曝光系統(tǒng)(NPGS納米圖形發(fā)生器)

自上世紀(jì)八十年代成立以來,美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制,其研發(fā)的納米圖形發(fā)生器系統(tǒng)(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng),簡(jiǎn)稱NPGS,又稱電子束微影系統(tǒng))技術(shù)在全球同類系統(tǒng)中屬于翹楚之作,世界各地越來越多的用戶包括大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)及政府實(shí)驗(yàn)室在使用NPGS進(jìn)行EBL研究工作.
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